LiAlO2 सब्सट्रेट

LiAlO2 सब्सट्रेटले लिथियम एल्युमिनियम अक्साइड (LiAlO2) बाट बनेको सब्सट्रेटलाई जनाउँछ।LiAlO2 अन्तरिक्ष समूह R3m सँग सम्बन्धित एक क्रिस्टलीय यौगिक हो र यसको त्रिकोणीय क्रिस्टल संरचना छ।

LiAlO2 सब्सट्रेटहरू विभिन्न अनुप्रयोगहरूमा प्रयोग गरिएको छ, पातलो फिल्म वृद्धि, एपिटेक्सियल तहहरू, र इलेक्ट्रोनिक, अप्टोइलेक्ट्रोनिक, र फोटोनिक उपकरणहरूको लागि हेटरोस्ट्रक्चरहरू सहित।यसको उत्कृष्ट भौतिक र रासायनिक गुणहरूको कारण, यो विशेष गरी व्यापक ब्यान्डगैप अर्धचालक उपकरणहरूको विकासको लागि उपयुक्त छ।

LiAlO2 सब्सट्रेटहरूको मुख्य अनुप्रयोगहरू मध्ये एक ग्यालियम नाइट्राइड (GaN) आधारित उपकरणहरू जस्तै हाई इलेक्ट्रोन मोबिलिटी ट्रान्जिस्टरहरू (HEMTs) र लाइट इमिटिङ डायोड्स (LEDs) को क्षेत्रमा छ।LiAlO2 र GaN बीचको जाली बेमेल अपेक्षाकृत सानो छ, यसले GaN पातलो फिल्महरूको एपिटेक्सियल वृद्धिको लागि उपयुक्त सब्सट्रेट बनाउँछ।LiAlO2 सब्सट्रेटले GaN डिपोजिसनको लागि उच्च-गुणस्तरको टेम्प्लेट प्रदान गर्दछ, जसले गर्दा उपकरणको प्रदर्शन र विश्वसनीयतामा सुधार हुन्छ।

LiAlO2 सब्सट्रेटहरू अन्य क्षेत्रहरूमा पनि प्रयोग गरिन्छ जस्तै मेमोरी उपकरणहरूको लागि फेरोइलेक्ट्रिक सामग्रीको वृद्धि, पिजोइलेक्ट्रिक उपकरणहरूको विकास, र ठोस-राज्य ब्याट्रीहरूको निर्माण।तिनीहरूको अद्वितीय गुणहरू, जस्तै उच्च थर्मल चालकता, राम्रो मेकानिकल स्थिरता, र कम डाइलेक्ट्रिक स्थिरता, तिनीहरूलाई यी अनुप्रयोगहरूमा फाइदाहरू दिन्छ।

सारांशमा, LiAlO2 सब्सट्रेटले लिथियम एल्युमिनियम अक्साइडबाट बनेको सब्सट्रेटलाई जनाउँछ।LiAlO2 सब्सट्रेटहरू विभिन्न अनुप्रयोगहरूमा प्रयोग गरिन्छ, विशेष गरी GaN-आधारित उपकरणहरूको विकासको लागि, र अन्य इलेक्ट्रोनिक, अप्टोइलेक्ट्रोनिक र फोटोनिक उपकरणहरूको विकासको लागि।तिनीहरूसँग वांछनीय भौतिक र रासायनिक गुणहरू छन् जसले तिनीहरूलाई पातलो फिल्महरू र हेटरोस्ट्रक्चरहरू जम्मा गर्नका लागि उपयुक्त बनाउँदछ र उपकरणको प्रदर्शन बढाउँदछ।